重庆快乐十分

摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 液体电子照相显影器单元中墨供应的流动结构的制作方法
    液体电子照相(lep)印刷使用特殊种类的墨在纸张和其他印刷基材上形成图像。lep墨通常包括分散在载液中的带电聚合物颗粒。聚合物颗粒有时被称为调色剂颗粒,因此,lep墨有时被称为液体调色剂。lep印刷工艺包括将所需印刷图像的静电图案放置在光电导体上,并通过向带电光电导体提供薄层lep墨来显影...
  • 使用基于重复率的增益估算器的改进的激光能量和剂量控制的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月24日提交的美国申请15/495,245的优先权,其全部内容通过引用并入本文。所公开的主题在激光控制领域中,并且更具体地在控制由(可以在半导体光刻工艺中使用的)激光源生成的激光的能量的领域中。光刻是在半导体工业中常用的工艺。现代光刻通常使用激光源...
  • 使用光刻法和光致抗蚀剂制造制品的设备和方法与流程
    本公开的背景本公开总体上涉及用于使用光刻法和光致抗蚀剂来制造制品的设备和使用光刻法和光致抗蚀剂来制造制品的方法。在一些示例中,所述设备和方法使用干膜光致抗蚀剂。本公开起源于基于呈片或膜的形式的光致抗蚀剂的工作。示例光致抗蚀剂为如专利申请us2006/0257785中所描述的,该申请的全部内容通过参...
  • 计量方法和设备以及相关联的计算机程序与流程
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月28日提交的美国申请62/491,857的优先权,其全部内容通过引用并入本文。本说明书涉及例如可用于通过光刻技术制造器件的计量的方法、设备和计算机产品以及使用光刻技术制造器件的方法。光刻设备是将期望的图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的...
  • 优化针对产品单元制造的工艺序列的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月28日提交的ep/us申请17168734.6的优先权,其全部内容通过引用并入本文。本发明涉及一种优化针对产品单元制造的工艺序列的方法,该方法可用于例如通过光刻技术制造半导体器件晶片。本发明还涉及相关联的计算机程序和计算机程序产品以及设备。光刻设...
  • 器件制造方法与流程
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月26日提交的ep申请17168204.0以及于2018年7月31日提交的ep申请17184009.3的优先权,其全部内容通过引用并入本文。本发明涉及使用光刻设备的器件制造。光刻设备是将期望的图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻...
  • 维护工艺指印集合的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月19日提交的ep/us申请17167117.5的优先权,其全部内容通过引用并入本文。本发明涉及一种维护指印集合的方法,指印集合表示与一个或多个(例如,在通过光刻技术制造器件时可用的)产品单元相关联的一个或多个工艺参数的变化。本发明还涉及相关联的计算机程序...
  • 光刻设备的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月11日提交的第17165857.8号欧洲申请的优先权,该申请通过整体引用并入本文中。本发明涉及一种布置为将来自图案化装置的图案投影到衬底上的光刻设备,且具体涉及用于这种光刻设备的冷却方法和系统。光刻设备是一种构造为将所需图案施加到衬底上的机器。例...
  • 曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法以及器件制造方法与流程
    本发明涉及例如使物体曝光的曝光装置及曝光方法、使用所述曝光装置的平板显示器的制造方法、以及使用所述曝光装置的器件制造方法的。在用以制造液晶显示部件或半导体部件等电子器件的微影工艺中,使用曝光装置。曝光装置通过利用投影光学系统,将经由形成有所期望的图案的掩模的照明光投影至板(例如,涂...
  • 适用于包含至少一个脆弱纳米结构体的样品的电子束光刻过程的制作方法
    本发明涉及光刻过程。其中以纳米精度布置有单个(或聚集的)荧光纳米发射器(诸如量子点、纳米金刚石中的氮空位中心和荧光分子)的光子和等离子体纳米结构在诸如单光子发射和等离子体的许多领域中找到了应用,并且这些结构充当在单个发射器级别上研究光-物质相互作用的理想工具。制造这种结构的需要在将纳米发射...
  • 本发明涉及兼具高蚀刻耐性、高耐热性和良好的涂布性的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜及其制造方法、抗蚀剂图案的形成方法以及半导体装置的制造方法。近年来,作为抗蚀剂下层膜的特性,强烈要求高蚀刻耐性、高耐热性,并报导了由下述材料制造的下层膜具有能够通过在其...
  • 抗蚀剂下层膜形成用组合物的制作方法
    本发明涉及用于形成在曝光时作为防反射膜起作用并且可以埋入狭窄空间和高长宽比的凹部的抗蚀剂下层膜、和相对于过氧化氢水溶液的耐性优异的抗蚀剂下层膜(保护膜)的组合物。进一步涉及应用上述抗蚀剂下层膜形成图案的方法。已知在基板与形成于基板上的抗蚀剂膜之间设置抗蚀剂下层膜,形成所希望的形状的抗蚀剂图...
  • 涉及用于通过等离子体照射在具有高低差的基板上形成平坦化膜的高低差基板被覆膜形成用组合物、和使用了该高低差基板被覆膜形成用组合物的被平坦化了的叠层基板的制造方法。近年来,半导体集成电路装置按照微细的设计规则被加工。为了通过光学光刻技术而形成更加微细的抗蚀剂图案,需要将曝光波长短波长化。然而,...
  • 发明领域本发明涉及阴图平版印刷版前体,该前体在其涂层中包含光引发剂,所述光引发剂包括含有低聚或(聚)环氧烷烃的结构部分。发明背景平版印刷机使用所谓的印刷母版,例如安装在印刷机的圆筒上的印刷版。母版在其表面上带有平版图像,并通过将油墨施加到所述图像,然后将油墨从母版转移到通常为纸的接受体材料上来获得...
  • 本发明涉及正型感光性硅氧烷组合物。另外,本发明也涉及由该正型感光性硅氧烷组合物形成的固化膜、以及具有该固化膜的元件。在显示器领域或光学领域,通常在显示器等的表面形成具有高的透射率的覆膜。例如,在平板显示器(fpd)等的表面通常形成平整化膜。关于这样的平整化膜的材料,人们着眼于聚硅氧烷,报告...
  • 基于多晶介质中的随机相位匹配的光学参量器件的制作方法
    本公开涉及光学参量器件(opd)。具体地,本公开呈现了一种基于具有二次非线性的多晶介质材料中的随机相位匹配的opd。本公开还涉及多晶材料的微结构以及表征和优化微结构的方法。经由三波混频的非线性频率转换,包括二次谐波生成(shg)、和频生成和差频生成(分别为sfg和dfg)、光学参量生成(o...
  • 发光装置的制作方法
    本发明涉及发光装置。专利文献1记载了一种半导体激光装置,其包括半导体激光芯片和与该半导体激光芯片光学耦合的空间光调制器。半导体激光芯片包括活性层、将该活性层夹在中间的一对包层和与活性层光学耦合的衍射光栅层。空间光调制器包括共用电极、多个像素电极和配置在共用电极与像素电极之间的液晶层。沿衍射...
  • 具有相对于调制电极横向移位的导电平面的高频光学调制器的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求chen等人于2017年3月17日提交的题为“highfrequencyopticalmodulatorwithlaterallydisplacedconductionplanerelativetomodulatingelectrodes”的美国专利申请15/462,0...
  • 电致变色膜和包括其的电致变色装置的制作方法
    相关申请的交叉引用本申请要求基于2017年4月24日提交的韩国专利申请第10-2017-0052046号和2018年4月19日提交的韩国专利申请第10-2018-0045422号的优先权权益,其公开内容通过引用整体并入本文。本申请涉及电致变色膜和包括其的电致变色装置。电致变色是指其中电致变...
  • 本发明涉及液晶取向剂、液晶取向膜、及液晶表示元件。作为液晶取向膜,正在广泛使用将以聚酰胺酸(也称为polyamicacid。)等聚酰亚胺前体、可溶性聚酰亚胺的溶液为主成分的液晶取向剂涂布并烧成而得的所谓聚酰亚胺系的液晶取向膜。作为所述液晶取向膜的成膜法,通常,已知有旋转涂布、浸渍涂布、柔性...
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